PEALD系統(tǒng)是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微電子設(shè)備制造、太陽能電池和納米材料研究等領(lǐng)域。以原子層沉積技術(shù)為基礎(chǔ)，通過在反應(yīng)室中交替注入兩種氣體，執(zhí)行反應(yīng)和清洗過程，實(shí)現(xiàn)對(duì)表面沉積物的逐層生長。
PEALD系統(tǒng)的組成由四個(gè)主要部分構(gòu)成：反應(yīng)室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。其中反應(yīng)室是最重要的組成部分，用于承載沉積表面和反應(yīng)氣體。反應(yīng)室具有良好的密封性能，以確保反應(yīng)氣體能夠準(zhǔn)確傳遞到沉積表面。反應(yīng)室內(nèi)部的沉積表面是由基板表面形成的，在表面形成的沉積物層上進(jìn)行PEALD沉積。
1、進(jìn)氣系統(tǒng)是用于控制反應(yīng)室內(nèi)的氣體流量和壓力的系統(tǒng)。它通常包括兩個(gè)進(jìn)氣口，一個(gè)用于注入反應(yīng)氣體，另一個(gè)用于清洗反應(yīng)室。這些氣體的流量和壓力受到精密控制，以確保PEALD沉積具有高度的均勻性和可重復(fù)性。
2、真空系統(tǒng)是保持反應(yīng)室處于高真空狀態(tài)的關(guān)鍵組成部分。它包括真空管和泵，以便將空氣和雜質(zhì)氣體從反應(yīng)室中抽取出來。高質(zhì)量的真空狀態(tài)對(duì)于PEALD沉積過程非常重要，因?yàn)樗兄诜磻?yīng)氣體沉積在基板表面上。
3、控制系統(tǒng)通常是一個(gè)計(jì)算機(jī)控制的系統(tǒng)，用于實(shí)時(shí)監(jiān)控和控制各種參數(shù)，如反應(yīng)氣體流量，真空度和沉積速率。這個(gè)系統(tǒng)通過傳感器和監(jiān)測(cè)器進(jìn)行反應(yīng)數(shù)據(jù)的獲取和分析，并向操作員提供PEALD沉積過程中的實(shí)時(shí)反饋信息。
PEALD系統(tǒng)的性能特點(diǎn)：
1、高準(zhǔn)確性：該系統(tǒng)可以在超薄的基板上制備出高質(zhì)量的薄膜，具有很高的準(zhǔn)確性。
2、單一分子沉積：該系統(tǒng)可以單一分子的進(jìn)行沉積，可以有效的控制化學(xué)反應(yīng)。
3、非常規(guī)材料：該系統(tǒng)可以非常規(guī)材料，如非晶硅、氮化硅、銅等進(jìn)行沉積，使其應(yīng)用范圍更加廣泛。
4、使用方便：該系統(tǒng)操作簡單，只需要進(jìn)行一些簡單的調(diào)節(jié)就可以進(jìn)行沉積。
5、高質(zhì)量：基于單粒子級(jí)別的反應(yīng)，制備的薄膜具有高質(zhì)量和優(yōu)異的成膜率，同時(shí)具有良好的抗氧化性能。
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更新時(shí)間：2023-03-21 
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