RIE反應離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機

進口光學鍍膜機 TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

MOCVD設備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設備

等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機 大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機

熱真空試驗箱 熱真空環(huán)境模擬試驗設備 空間環(huán)境模擬試驗設備 熱真空系統(tǒng)

Platens樣品臺 等離子體源

飛行時間二次離子質譜儀

接觸角測量儀 薄膜曲率應力測量儀

晶圓劃片機