products category
刻蝕系統
Related articles
光學元件鍍膜機先進的技術介紹
空間環境模擬試驗設備具有自動化程度高、溫度控制準確的特點
全自動磁控濺射系統能夠精確控制薄膜的厚度和均勻性
帶你揭秘微波等離子去膠機的工作原理
微波等離子去膠機的工作原理及性能特點
產品中心/ products
NIE-3000IBE離子束刻蝕
聯系電話:021-62318025
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品概述:該系統為手動放片取片,但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統,系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品特點:
產品應用:
返回列表
021-62318025
掃碼加微信
點擊隱藏