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全自動磁控濺射系統是一種利用磁場控制電子運動軌跡，使電子與靶材發生碰撞并濺射出原子或分子，從而在基片上形成薄膜的設備。與傳統的磁控濺射設備相比，在結構上增加了自動化控制系統，能夠實現對整個濺射過程的精確控制和自動化操作。主要由真空室、磁控濺射源、基片加熱器、真空測量與控制系統以及自動化控制系統等部分組成。其中，自動化控制系統是核心部分，它通過接收傳感器的信號，實時監測濺射過程中的各項參數（如真空度、溫度、電流等），并根據預設的程序自動調整各項參數，以保證薄膜的質量和一致性。廣...

二次離子質譜法是一種高效的分析技術，利用化合物的離子化過程及其質量分析，以確定待測化合物的分子量、分子式和結構特征。質譜儀作為該方法的重要組成部分，通過將離子的質量進行有效分離，并依據電荷與質量比率輸出至檢測器，在此被探測并轉換為數字信號。簡介在質譜分析中，有三種常見的質譜儀離子分析器可用于離子的分離。四極桿質譜儀飛行時間質譜儀磁扇形質量分析儀四極桿質譜儀直流偏壓會使所有帶電分子加速并遠離中心線，其速度與它們的電荷與質量比成正比。當這些分子的軌跡偏離過大時，它們將撞擊金屬棒或...

TOF-SIMS（TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry）飛行時間二次離子質譜儀的基本組件包括一次離子束，和用于樣品深度剖析的離子束。主離子束被脈沖化以供飛行時間質譜儀進行分析使用。鉍基液態金屬離子槍（LMIGs）是商業ToF-SIMS中常用的離子源。與金等其他LMIG源相比，鉍基離子源可以在較低的溫度下工作，并能產生用于分析的離子簇（例如Bi3+）。這些離子束可以緊密聚焦，以實現高空間分辨率(亞表面分析可通過在雙束模式操作來實現，包...

全自動磁控濺射系統是一種利用磁場控制等離子體濺射技術在基材上沉積薄膜的材料制備設備。廣泛應用于半導體、光電、材料科學、裝飾鍍膜等領域，用于生產各種功能性和裝飾性薄膜。通過精確控制濺射過程中的各種參數，實現了高效率、高穩定性和高質量的薄膜沉積。工作原理基于濺射效應，即在真空環境下，通過電場加速的氣體離子（通常是氬離子）轟擊靶材，使靶材原子或分子被轟擊出來，然后沉積在基材上形成薄膜。磁控部分則是通過靶材背后的磁場設計，有效延長了電子在等離子體中的運動路徑，提高了氣體離化率和濺射效...

靜態SIMS是一種非常靈敏的表面分析技術，能在只消耗樣品單層一小部分的情況下，獲得詳細的質譜圖。被分析的分子來自固體表面前幾層，這對于探討材料關鍵區域例如附著力或催化等性質至關重要。Kore公司的TOF-SIMSSurfaceSeer系列產品為科研和工業領域提供了高性價比的表面分析解決方案。以下數據展示了SurfaceSeer儀器在材料研究和分析方面的一些優勢。實驗質量分辨率和準確性圖1.污染鋁接頭近來，儀器的質量分辨率和準確度均已經提高到2000（M/ΔM）以上。上圖展示了...

飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）是一種表面分析技術，它將脈沖一次離子束聚焦到樣品表面，在濺射過程中產生二次離子。分析這些二次離子可提供有關樣品表面的分子、無機和元素種類的信息。例如，如果表面吸附了有機污染物（如油），TOF-SIMS將揭示這些信息，而其他技術則難以實現，特別是在污染物含量極低的情況下。由于TOF-SIMS是一種測量技術，因此通常可以檢測到元素周期表中的所有元素，包括H。此外，這種分析可以提供質譜信息;樣品上XY維度的圖像信息;以及Z方向的深度剖面信息到...

什么是TOFSIMS?它可以應用于哪些領域？能提供哪些信息？哪些樣品適用（哪些不適用）？在這一系列文章中，我們將解答所有這些問題，以及更多探討。飛行時間二次離子質譜法（ToFSIMS）是一種用于研究固體表面和薄膜的三維化學組成的表面分析技術。聚焦的一次離子束轟擊目標表面，產生中性原子/分子、二次離子和電子。二次離子通過飛行時間質譜儀進行收集和分析。質譜儀通過精確測量離子到達探測器所需的時間(即“飛行時間”)來測量離子的質荷比(m/z)。通過掃描一次離子束在樣品表面的區域，可以...

二次離子質譜儀是一種強大的表面分析工具，它能夠在微觀層面上提供關于材料成分和結構的詳細信息。它的應用范圍廣泛，從材料科學到生物醫學，從半導體工業到地球科學。盡管SIMS具有許多優勢，但它的操作和維護相對復雜，需要專業的技術人員和持續的培訓。二次離子質譜儀的技術原理：1.一次離子束：一次離子束是由離子源產生的高能離子，通常使用銫離子，它們被加速到高能量并聚焦成細小的束流。2.二次離子產生：當一次離子束轟擊樣品表面時，會將表面原子或分子激發為離子，即二次離子。3.質譜分析：產生的...